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推荐性国家标准现行

GB/T 25188-2010

硅晶片表面超薄氧化硅层厚度的测量 X射线光电子能谱法

Thickness measurements for ultrathin silicon oxide layers on silicon wafers X-ray photoelectron spectroscopy

发布:2010-09-26实施:2011-08-01
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